研发出国产DUV光刻机 中国可产8纳米及以下芯片
（北京15日讯）中国工信部近日宣布，研发出首台国产深紫外光光刻机（DUV），可生产8纳米及以下芯片，目前正在推广应用。
工业和信息化部官网9日公布“首台重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）”的通知，下发地方要求加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。
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