中国加速囤积光刻机 美智库指吁禁售浸没式DUV设备
（华盛顿4日讯）一份美国研究报告估计，截至今年第一季，中资晶圆厂累计进口约343台阿斯麦浸没式深紫外（DUV）光刻机，其中多数可用于生产先进人工智能（AI）芯片。报告呼吁美国及盟友全面禁止向中国出口这类设备，并收紧备件供应和维修服务管制。
华盛顿智库科技与治国方略中心（Center for Technology & Statecraft，简称CTS）9月26日发布这份报告。作者是美国前出口管制官员布朗（Nicholas Brown），以及曾任白宫和商务部科技政策顾问的汗（Saif Khan）。两人目前分别担任CTS高级研究员和主任。
中国芯片制造商无法购买荷兰阿斯麦（ASML）最先进的极紫外（EUV）光刻机，因而高度依赖浸没式DUV设备生产先进半导体。部分浸没式DUV机型目前仍可获准出口中国。
报告估计，2012年至今年第一季，中资晶圆厂累计进口的343台浸没式DUV设备中，约270台为NXT:1980i，另有28台更先进的NXT:2050i和NXT:2100i，以及约45台较旧机型。上述数字不包括外资企业在华晶圆厂的进口量，也未扣除设备退役或再出口的数量。
报告指出，中国在2010年代末开始进口NXT:1980i，并在荷兰政府2023年宣布限制更先进的浸没式DUV设备出口后，大幅加快采购。报告估计，中资晶圆厂2024年和2025年分别进口约90台和89台NXT:1980i，两年支出超过130亿美元。
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